Durch metallorganische Gasphasenabscheidung?

Durch metallorganische Gasphasenabscheidung?
Durch metallorganische Gasphasenabscheidung?

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Anonim

Metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD) ist ein Verfahren zur Herstellung hochreiner halbleitender Dünnschichten aus kristallinen Verbindungen und Mikro-/Nanostrukturen. Präzise Feinabstimmung, abrupte Grenzflächen, epitaxiale Abscheidung und ein hohes Maß an Dotierstoffkontrolle können leicht erreicht werden.

Was ist der Unterschied zwischen MOCVD und CVD?

MOCVD. Die metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD) ist eine Variante der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD), die im Allgemeinen zum Abscheiden von kristallinen Mikro-/Nano-Dünnschichten und -Strukturen verwendet wird. Feine Modulation, abrupte Grenzflächen und ein gutes Maß an Dotierstoffkontrolle können leicht erreicht werden.

Welche zwei Faktoren müssen für die chemische Gasphasenabscheidung vorhanden sein?

CVD-Prozesse erfordern jedoch typischerweise eine Hochtemperatur- und Vakuumumgebung, und die Vorläufer sollten flüchtig sein.

Was ist das Pecvd-System?

Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) ist ein Verfahren, mit dem Dünnfilme aus verschiedenen Materialien bei niedrigeren Temperaturen auf Substraten abgeschieden werden können als bei der standardmäßigen Chemical Vapour Deposition (CVD).). Wir bieten zahlreiche Innovationen in unseren PECVD-Anlagen, die hochwertige Folien produzieren. …

Ist Pecvd eine physikalische Dampfabscheidungstechnik?

PECVD ist eine gut etablierte Technik zur Abscheidung einer Vielzahl von Filmen. Viele Gerätetypen erfordern PECVD, um eine hochwertige Passivierung oder Masken mit hoher Dichte zu erzeugen.

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